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Influence of substrate annealing on inducing Ti3+ and oxygen vacancy in TiO2 thin films deposited via RF magnetron sputtering
衬底退火对射频磁控溅射TiO2薄膜中Ti3+和氧空位的影响
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期刊:Applied Surface Science 作者:S.A. Abdullah; M.Z. Sahdan; N. Nafarizal; H. Saim; Z. Embong; et al 出版日期:2018-08-18 |
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