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![]() 原子层沉积过程中臭氧剂量时间对45 nm厚ZrO2薄膜铁电和热释电性能的影响
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期刊:ACS Applied Electronic Materials 作者:Bohan Xu; Liam Collins; Kristina M. Holsgrove; Thomas Mikolajick; Uwe Schroeder; et al 出版日期:2023-03-30 |
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