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                                                                                                                                                                     Vacuum ultraviolet enhanced atomic layer etching of ruthenium films                                                    钌薄膜的真空紫外增强原子层刻蚀 
                                                         | 
                                            
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                                                        期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Brennan M. Coffey; Himamshu C. Nallan; John G. Ekerdt 出版日期:2021  | 
                                                
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