| 标题 |
 The effects of chemical gradients and photoresist composition on lithographically generated line edge roughness 化学梯度和光刻胶成分对光刻线边缘粗糙度的影响
相关领域
光刻胶
材料科学
表面光洁度
GSM演进的增强数据速率
抵抗
表面粗糙度
平版印刷术
聚合物
光学
光刻
纳米
光电子学
纳米技术
复合材料
计算机科学
物理
电信
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Timothy B. Michaelson; Adam R. Pawloski; Alden Acheta; Yukio Nishimura; C. Grant Willson 出版日期：2005-05-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
pluto
昏睡的蟠桃
cdercder
bc
归尘
冰魂
Rye227
jenningseastera
ss
乐乐
平常的毛豆
back you up
科研小民工
HEIKU
不倦
遇上就这样吧
zmnzmnzmn
巴拉巴拉巴拉拉
顺心香菇
wy.he
皖公网安备34019202002308
