| 标题 |
Fabrication and optimization of aggressively scaled Dual-Bit/Cell Split-Gate Floating-Gate flash memory cell in 55-nm node technology 相关领域
晶体管
光电子学
排水诱导屏障降低
节点(物理)
闪光灯(摄影)
材料科学
阈下传导
制作
电气工程
栅氧化层
工程类
物理
光学
电压
医学
病理
结构工程
替代医学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Solid-state Electronics 作者:Hualun Chen; Zhaozhao Xu; Wei Xiong; Jian Zhang; Xiaojun Xu; et al 出版日期:2022-04-16 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)