| 标题 |
Effects of substrate temperature and sputtering gas composition on physical properties and photocatalytic activities of WO x thin films deposited via radiofrequency sputtering 相关领域
光催化
薄膜
溅射
材料科学
基质(水族馆)
结晶
体积流量
吸光度
吸收边
粒度
分析化学(期刊)
化学工程
溅射沉积
亚甲蓝
纳米技术
光电子学
化学
复合材料
催化作用
色谱法
有机化学
带隙
海洋学
地质学
量子力学
工程类
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Tomoaki Miyagi; Yoshiro Takahashi; Yasuki Akimoto 出版日期:2022-05-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|