Novel, High‐Resolution, Subtractive Photoresist Formulations for 3D Direct Laser Writing Based on Cyclic Ketene Acetals

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标题	Novel, High‐Resolution, Subtractive Photoresist Formulations for 3D Direct Laser Writing Based on Cyclic Ketene Acetals 相关领域光刻胶减色制作烯酮材料科学丙烯酸酯微加工纳米技术聚合物化学复合材料有机化学光学单体图层（电子）替代医学病理物理医学
网址	https://doi.org/10.1002/admt.202101590
DOI	10.1002/admt.202101590 doi
其它	期刊：Advanced Materials Technologies 作者：Marco Carlotti; Omar Tricinci; Virgilio Mattoli 出版日期：2022-03-23
求助人	airplane 在 2026-01-05 09:20:36 发布自海南，悬赏 10 积分
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