Improvement of lithographic performance and reduction of mask cost by simple OPC

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标题	Improvement of lithographic performance and reduction of mask cost by simple OPC 相关领域平版印刷术材料科学还原（数学）浸没式光刻计算机科学抵抗下一代光刻光电子学极紫外光刻薄脆饼光学接近校正
网址	https://doi.org/10.1117/12.961118
DOI	10.1117/12.961118 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2012 作者：Frank E. Abboud; Koichiro Tsujita; Thomas B. Faure; Koji Mikami; Hiroyuki Ishii; et al 出版日期：2012
求助人	Denny 在 2021-05-10 15:07:22 发布，悬赏 10 积分
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