Novel CeO2@MOF and its derived abrasives for rapid chemical mechanical polishing

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标题	Novel CeO2@MOF and its derived abrasives for rapid chemical mechanical polishing 用于快速化学机械抛光的新型CeO2@MOF及其衍生磨料相关领域材料科学抛光化学机械平面化冶金复合材料
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.109182
DOI	10.1016/j.mssp.2024.109182 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Shaoping Li; Kai Feng; Huidong Cui; Zhaobo He; Ruan Chi; et al 出版日期：2024-12-02
求助人	猫猫逃离二次元在 2025-09-04 14:21:26 发布自中国，悬赏 10 积分
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