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 Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition of silicon–carbon thin‐film materials from a hexamethyldisilane source: Characterization of the process and the deposits 六甲基二硅烷源硅碳薄膜材料的远程氢等离子体化学气相沉积：工艺和沉积物的表征
相关领域
四甲基硅烷
化学气相沉积
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
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化学工程
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期刊：Journal of Applied Polymer Science 作者：A. M. Wróbel; A. Walkiewicz‐Pietrzykowska; J.E. Klemberg-Sapieha; Yoshinori Hatanaka; Toru Aoki; et al 出版日期：2002-08-28 |
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