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Photoresist properties during high current implantation: an I-line vs. DUV resist comparison
高电流注入光刻胶性能:I-line与DUV光刻胶的比较
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期刊:2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432) 作者:C. Norton; Duncan Marshall; M. S. Ameen; D. Whiteside; J. Hallock; et al 出版日期:2003-07-10 |
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