| 标题 |
  Low Leakage in High‐k Perovskite Gate Oxide SrHfO3 高k钙钛矿栅极氧化物SrHfO3中的低泄漏
相关领域
材料科学
光电子学
电介质
高-κ电介质
泄漏（经济）
电容器
电流密度
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栅极电介质
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期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Juhan Kim; Dowon Song; Hwanhui Yun; Jaehyeok Lee; Jae Ha Kim; et al 出版日期：2023-04-17 |
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Leon
在
2025-08-04 17:52:54 发布，悬赏 10 积分
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