| 标题 |
 Tight-binding quantum chemical molecular dynamics simulation of mechano-chemical reactions during chemical–mechanical polishing process of SiO2 surface by CeO2 particle CeO2粒子化学机械抛光SiO2表面机械化学反应的紧束缚量子化学分子动力学模拟
相关领域
化学机械平面化
分子动力学
化学反应
粒子（生态学）
化学物理
化学键
化学
量子化学
化学动力学
人口
机械化学
化学过程
计算化学
材料科学
抛光
纳米技术
分子
复合材料
有机化学
人口学
社会学
地质学
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Arivazhagan Rajendran; Yasufumi Takahashi; Michihisa Koyama; Momoji Kubo; Akira Miyamoto 出版日期：2005-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
shinysparrow
SOLOMON
寻道图强
benben
cctv18
gjww
爱鱼人士
star
个性的紫菜
互助遵法尚德
sars518
阿大呆呆
wangjingli666
宜醉宜游宜睡
紫金大萝卜
liv
不安青牛
HGalong
酸化土壤改良
张泽崇
皖公网安备34019202002308
