标题 |
Probing the molecular structures of plasma-damaged and surface-repaired low-k dielectrics
等离子体损伤和表面修复低k电介质分子结构的探讨
相关领域
等离子体
电介质
材料科学
纳米技术
化学物理
光电子学
复合材料
化学
物理
核物理学
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DOI | |
其它 |
期刊:Physical chemistry chemical physics/PCCP. Physical chemistry chemical physics 作者:Xiaoxian Zhang; John N. Myers; Qinghuang Lin; Jeff Bielefeld; Zhan Chen 出版日期:2015-01-01 |
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