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 Low-pressure MOCVD of Al2O3 films using aluminium acetylacetonate as precursor: nucleation and growth 以乙酰丙酮铝为前驱体的Al2O3薄膜的低压MOCVD成核与生长
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期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Manohar Singh; S. A. Shivashankar 出版日期：2002-11-05 |
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