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标题
Operando study of HfO2 atomic layer deposition on partially hydroxylated Si(111)
部分羟基化Si（111）上HfO2原子层沉积的操作研究
相关领域
原子层沉积 X射线光电子能谱 沉积（地质） 微电子 化学 氧化物 配体（生物化学） 分析化学（期刊） 化学气相沉积 图层（电子） 单层 化学工程 材料科学 纳米技术 有机化学 古生物学 受体 工程类 生物 生物化学 沉积物
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003349
AI链接 aip.org osti.govdoi.org
DOI
10.1116/6.0003349 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Rosemary Jones; Giulio D’Acunto; Payam Shayesteh; Indiana Pinsard; F. Rochet; et al
出版日期：2024-02-28
求助人
毛聋聋 在 2025-08-04 22:06:47 发布，悬赏 10 积分
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