| 标题 |
 Effects of grain size, dislocation density, and texture type on the etching behavior of Cu target in magnetron sputtering process 晶粒尺寸、位错密度和织构类型对磁控溅射Cu靶刻蚀行为的影响
相关领域
材料科学
位错
纹理（宇宙学）
粒度
溅射沉积
蚀刻（微加工）
溅射
腔磁控管
冶金
复合材料
纳米技术
薄膜
计算机科学
人工智能
图像（数学）
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Surface Topography Metrology and Properties 作者：Xueyang Zhao; Junping Yuan; Xiang Zhou; Hong‐Yang Lu; Bowen Hu; et al 出版日期：2024-10-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
不配.
核桃
Yini
虚拟的鼠标
Virtual
feng1235
YifanWang
null
儒雅的天川
情怀
Hayat
MchemG
andrele
COSMAO
深情安青
小二郎
清爽老九
MMMMM
华仔
爆米花
皖公网安备34019202002308
