标题 |
Effect of Skin Layer on Brush Loading, Cross-Contamination, and Cleaning Performance during Post-CMP Cleaning
CMP后清洗过程中表层对刷负荷、交叉污染及清洗性能的影响
相关领域
数据清理
刷子
污染
材料科学
化学机械平面化
图层(电子)
聚乙烯醇
湿法清洗
复合材料
薄脆饼
化学工程
纳米技术
废物管理
化学
有机化学
生态学
工程类
生物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ECS journal of solid state science and technology 作者:Samrina Sahir; Hwi-Won Cho; Palwasha Jalalzai; Jerome Peter; Randeep Singh; et al 出版日期:2022-05-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|