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High-Performance Chain Scissionable Resists for Extreme Ultraviolet Lithography: Discovery of the Photoacid Generator Structure and Mechanism
极紫外光刻用高性能断链抗蚀剂:光酸发生器结构和机理的发现
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期刊:Chemistry of Materials 作者:Jingyuan Deng; Sean Bailey; Shaoyi Jiang; Christopher K. Ober 出版日期:2022-06-30 |
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