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Superior and stable ferroelectric properties of hafnium-zirconium-oxide thin films deposited via atomic layer deposition using cyclopentadienyl-based precursors without annealing
非退火环戊二烯基原子层沉积铪锆氧化物薄膜的优良和稳定的铁电性能
相关领域
原子层沉积
铁电性
材料科学
环戊二烯基络合物
铪
锆
薄膜
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电介质
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化学工程
沉积(地质)
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化学
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工程类
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沉积物
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