3 V operation of pentacene-based floating-gate memory realized by the isolation process with Ar/N2-plasma nitridation for N-doped LaB6 metal and high-k LaB x Ny insulator stacked structure

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标题	3 V operation of pentacene-based floating-gate memory realized by the isolation process with Ar/N2-plasma nitridation for N-doped LaB6 metal and high-k LaB x Ny insulator stacked structure N掺杂LaB6金属和高k LaB x Ny绝缘体堆叠结构的Ar/N2等离子体氮化隔离工艺实现并五苯基浮栅存储器的3 V工作相关领域并五苯材料科学兴奋剂分析化学（期刊）电极光电子学等离子体纳米技术化学薄膜晶体管图层（电子）物理物理化学色谱法量子力学
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/acaed5 AI链接 iop.orgdoi.org
DOI	10.35848/1347-4065/acaed5 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Eun-Ki Hong; Shun-ichiro Ohmi 出版日期：2022-12-28
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