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  Evaluation of EUV resist performance with interference lithography towards 11 nm half-pitch and beyond 用干涉光刻评估11nm半间距及以上的EUV抗蚀剂性能
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Yasin Ekinci; Michaela Vockenhuber; Mohamad Hojeij; Li Wang; Nassir Mojarad 出版日期：2013-04-01 |
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