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![]() 重离子辐照引起的N沟道6H-SiC MOSFET电流瞬态效应
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期刊:Materials Science Forum 作者:Kin Kiong Lee; Jamie Steward Laird; Takeshi Ohshima; Shinobu Onoda; Toshio Hirao; Hisayoshi Itoh 出版日期:2010-05-05 |
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