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 Effect of substrate temperature and annealing on the growth of TiO2‐x thin films deposited by using DC‐magnetron sputtering technique 衬底温度和退火对直流磁控溅射法制备TiO 2-x薄膜的影响
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期刊：Surface and Interface Analysis 作者：Swapan Kumar Jana; Anil K. Debnath; P. Veerender; Jitendra Bahadur; Jugal Kishor; et al 出版日期：2023-12-10 |
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受伤的夏旋
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