| 标题 |
 书籍（章节） Growth Characteristics and Properties of Tin-Doped Indium Oxide Thin Films as a Function of Oxygen Pressure When Prepared by E-beam Evaporation 电子束蒸发制备锡掺杂氧化铟薄膜的生长特性和与氧压的关系
相关领域
氧化铟锡
薄膜
材料科学
蒸发
粒度
托尔
分析化学（期刊）
电阻率和电导率
结晶度
透射率
氧气
铟
电子束物理气相沉积
兴奋剂
氧化物
化学
纳米技术
冶金
复合材料
光电子学
电气工程
热力学
物理
工程类
有机化学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Lecture notes in electrical engineering 作者：Hong-Hsin Huang; Yen‐Ming Chen; Ming-Chih Huang 出版日期：2014-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
bc
昏睡的蟠桃
SYLH
冰魂
科研助手6
椰子在长江送礼物
iNk
m木宁木蒙
等待的忆枫
剑指东方是为谁
pcr163
pluto
科研小民工
yufanhui
平常的毛豆
核桃
赫枫
高大凌寒
back you up
皖公网安备34019202002308
