| 标题 |
Influence of charge and discharge of electric double layer in pulse plating 脉冲电镀中双电层充放电的影响
相关领域
压扁
电流密度
脉搏(音乐)
电镀(地质)
电流(流体)
双层(生物学)
分析化学(期刊)
电极
电化学
材料科学
法拉第电流
图层(电子)
机械
化学
热力学
电极电位
电压
电气工程
复合材料
物理
物理化学
工程类
色谱法
量子力学
地球物理学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Electrochemistry 作者:J. Cl. Puippe; N. Ibl 出版日期:1980-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|