Effect of Pregate Carbon Implant on Narrow Width Behavior and Performance of High- Metal-Gate nMOS Transistors

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标题	Effect of Pregate Carbon Implant on Narrow Width Behavior and Performance of High- Metal-Gate nMOS Transistors Pregate碳注入对高金属栅nMOS晶体管窄宽度行为和性能的影响相关领域 NMOS逻辑 CMOS芯片金属浇口晶体管材料科学光电子学碳纤维电气工程纳米技术工程类栅氧化层电压复合数复合材料
网址	https://doi.org/10.1109/ted.2016.2570600
DOI	10.1109/ted.2016.2570600 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Nihar R. Mohapatra; Mohit D. Ganeriwala; M Satya Sivanaresh 出版日期：2016-07-01
求助人	研友_Z7XO48 在 2024-02-29 10:40:45 发布自浙江，悬赏 10 积分
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