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 Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of TiN Thin Films Using Ultralow Electron Temperature Plasma 超低电子温度等离子体增强原子层沉积TiN薄膜
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Min-Seok Kim; Chang-Min Lim; Sung Hoon Kim; Dong‐Min Kim; Hyeongtag Jeon; et al 出版日期：2025-02-06 |
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