标题 |
Deposit and etchback approach for ultrathin Al2O3 films with low pinhole density using atomic layer deposition and atomic layer etching
低针孔密度Al2O3超薄薄膜的原子层沉积和原子层刻蚀工艺
相关领域
原子层沉积
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期刊:Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者:Jonas C. Gertsch; Emanuele Sortino; Victor M. Bright; Steven M. George 出版日期:2021-11-05 |
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