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Graphene removal by water-assisted focused electron-beam-induced etching – unveiling the dose and dwell time impact on the etch profile and topographical changes in SiO2 substrates
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网址
https://doi.org/10.3762/bjnano.15.18
AI链接 beilstein-journals.org nih.gov nih.gov nih.gov unizar.es unizar.es handle.net doaj.orgdoi.org
DOI
10.3762/bjnano.15.18 doi
其它 期刊：Beilstein Journal of Nanotechnology
作者：Aleksandra Szkudlarek; Ján Michalík; Inés Serrano-Esparza; Z. Nováček; Veronika Novotná; et al
出版日期：2024-02-07
求助人
虚幻的天问 在 2026-01-14 18:38:26 发布自山西，悬赏 10 积分
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