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Optimization of Triangular-Profiled Si-Grating Fabrication Technology for EUV and SXR Applications |
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期刊:Technical Physics 作者:D. V. Mokhov; T. N. Berezovskaya; K. Yu. Shubina; E. V. Pirogov; A. V. Nashchekin; et al 出版日期:2024-03-16 |
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