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Atomic Layer Deposition: Atomic Layer Deposition of Al 2 O 3 Directly on 2D Materials for High‐Performance Electronics (Adv. Mater. Interfaces 10/2019)
原子层沉积:直接在用于高性能电子设备的2D材料上原子层沉积Al 2 O 3(Adv.Mater.Interfaces 10/2019)
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期刊:Advanced Materials Interfaces 作者:Na Li; Wei Zheng; Jing Zhao; Qinqin Wang; Cheng Shen; et al 出版日期:2019-05-01 |
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