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  A plasma chemistry model for H2/SiH4 mixtures used in PECVD processes PECVD工艺中H2/SiH4混合物的等离子体化学模型
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期刊：Physica Scripta 作者：Vladimir Sushkov; Lazhar Rachdi; Marc Hofmann 出版日期：2023-03-04 |
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