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Atomistic modeling of the metallic-to-semiconducting phase boundaries in monolayer MoS2

肖特基势垒 材料科学 单层 凝聚态物理 密度泛函理论 晶体管 肖特基二极管 相(物质) 相界 化学物理 光电子学 纳米技术 化学 计算化学 物理 有机化学 二极管 电压 量子力学
作者
Dipankar Saha,Santanu Mahapatra
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:108 (25) 被引量:39
标识
DOI:10.1063/1.4954257
摘要

Recent experimental demonstration on the coexistence of metallic and semiconducting phases in the same monolayer MoS2 crystal has attracted much attention for its use in ultra-low contact resistance-MoS2 transistors. However, the electronic structures of the metallic-to-semiconducting phase boundaries, which appear to dictate the carrier injection in such transistors, are not yet well understood. In this letter, interfacing the 2H and 1T′ polytypes appropriately, we first model the “beta” (β) and the “gamma” (γ) phase boundaries, and demonstrate good agreement with experiential results. We then apply first-principles based density functional theory to calculate the electronic structures for those optimized geometries. We further employ non equilibrium Green's function formalism to evaluate the transmission spectra and the local density of states (LDOS) in order to assess the Schottky barrier nature of the phase boundaries. Our study reveals that while the γ boundary yields p-type Schottky barrier, the β boundary leads to the distinct symmetric Schottky barrier with an atomically sharp transition region. This understanding could be useful for designing high performance transistors using phase-engineered MoS2 crystals.
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