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Silicon Nanowire Gate‐All‐Around Cold Source MOSFET With Ultralow Power Dissipation: A Machine‐Learning‐Hamiltonian Accelerated Design

材料科学 MOSFET 纳米线 消散 硅纳米线 电子设备和系统的热管理 哈密顿量(控制论) 光电子学 工程物理 纳米技术 电气工程 晶体管 量子力学 电压 机械工程 物理 数学优化 数学 工程类
作者
Kang Wang,Menglin Huang,Zhenxing Dai,Saichao Yan,Zhi‐Xin Guo,Hongjun Xiang,Xingao Gong,Shiyou Chen
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
标识
DOI:10.1002/adfm.202513807
摘要

Abstract Exploring gate length scalability and enhancing performance in silicon‐based devices remain viable strategies to extend Moore's Law. However, these efforts have been hindered by deteriorative short‐channel effects and 60 mV dec −1 thermionic limitation of subthreshold swing ( SS ) at room temperature. To address these challenges, a gate‐all‐around (GAA) cold source field‐effect transistors (CSFETs) is designed based on the silicon nanowire (SiNW) with the characteristic of isolated bands, which is identified through a machine‐learning‐Hamiltonian accelerated high‐throughput search. The ab initio quantum transport simulations demonstrate that sub‐10‐nm SiNW CSFETs can exhibit excellent ballistic transport properties, meeting the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) criteria for high‐performance and low‐power devices. Thanks to the intrinsic cold source mechanism enabled by the isolated bands of the SiNW homojunction, the SS of SiNW CSFETs surpasses the “Boltzmann's tyranny”, thereby leading to superb gate controllability. The synergistic effects of the cold source and cold drain further reduce the average SS , enhancing the device's potential for ultralow power dissipation. Consequently, the energy‐delay product values are significantly comparable to those of carbon nanotube (CNT) FETs. The work offers a promising candidate for energy‐efficient solutions utilizing mainstream silicon fabrication processes.
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