Atomic force microscopy and transmission electron microscopy observations of KOH-etched GaN surfaces

透射电子显微镜 位错 材料科学 蚀刻(微加工) 原子力显微镜 结晶学 外延 电子显微镜 腐蚀坑密度 纳米技术 复合材料 光学 化学 物理 图层(电子)
作者
Kenji Shiojima
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Institute of Physics]
卷期号:18 (1): 37-40 被引量:70
标识
DOI:10.1116/1.591147
摘要

Clear results on the origin of etch pits are reported. The surfaces of high-quality GaN epitaxial layers were etched with molten KOH and observed by atomic force microscopy (AFM) and plan-view and cross-sectional transmission electron microscopy (TEM). AFM images for as-grown samples show dark spots indicating mixed dislocations. For etched samples, hexagonal-base etch pits were clearly observed, and the dark spots disappeared. TEM observations show that a mixed dislocation terminates at the bottom of each etch pit. The densities of etch pits and mixed dislocations are almost the same, i.e., around 3×108 cm−2. The origin of etch pits is the mixed dislocation, and the combination of KOH etching and AFM is found to be a better approach for two-dimensional evaluation of mixed dislocations.

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