Mechanical properties of Xe-ion-irradiated high-entropy-alloy-based multilayers

合金 辐照 材料科学 离子 高熵合金 原子物理学 冶金 化学 核物理学 物理 有机化学
作者
Smita G. Rao,Rui Shu,Ji Wang,Jianlong Chai,Y. H. Zhu,Arnaud le Febvrier,Per Eklund
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (6) 被引量:2
标识
DOI:10.1063/5.0187142
摘要

In this Letter, we investigate the mechanical stability of HEA-based multilayers after Xe-ion irradiation. CrFeCoNi/TiNbZrTa metallic and nitride thin films with a bilayer thickness of 30 nm were grown by reactive dc-magnetron sputtering on Al2O3(0001) substrates for irradiation studies and on Si(100) substrates for other characterizations. The films were subjected to 3-MeV Xe-ion irradiation at room temperature (RT) and at 500 °C. The crystal structure and mechanical properties of the films before and after irradiation were studied by x-ray diffraction and nanoindentation. Before irradiation, both the metallic and nitride multilayers displayed a lower hardness (7 and 20 GPa, respectively). Annealing at 500 °C for 150 min increased the hardness of the multilayer samples, but it also induced intermixing of elements between the sublayers of the metallic multilayer. Irradiation hardening was observed only in the metallic multilayer at room temperature. When comparing the effects of irradiation damage vs the effects of annealing on the mechanical properties, it was observed that annealing the multilayers had a more pronounced effect.

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