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Effects of post cooling on the remnant polarization and coercive field characteristics of atomic layer deposited Al-doped HfO2 thin films

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作者
Bon‐Cheol Ku,Yu‐Rim Jeon,Moonsuk Choi,Chulwon Chung,Changhwan Choi
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:601: 154039-154039 被引量:17
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2022.154039

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