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Chemistry-informed machine learning model for EUV photoresist development

光刻胶 极紫外光刻 计算机科学 化学 纳米技术 材料科学 图层（电子）
作者
Taegyun Park,Eun-Kyu Lee,Sol Han,Sungwoo Hwang,Hong‐Joon Lee,Hye-Ri Hong,Eunkyoung Byun,Jingoo Yoon,Yong-Sik Kim,Sam-Jong Choi
标识
DOI：10.1117/12.3049907
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