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Plasma Assisted Deposition of Metal Fluoride Coatings

材料科学 沉积（地质） 氟化物 蒸发 等离子体 电子束物理气相沉积 金属 离子束辅助沉积 冶金 化学工程 化学气相沉积 无机化学 纳米技术 梁（结构） 化学 光学 离子束 地质学 热力学 沉积物 物理 工程类 量子力学 古生物学
作者
Martin Bischoff,Dieter Gäbler,Norbert Kaiser
出处
期刊： 日期：2010-01-01 卷期号：: MD1-MD1 被引量：2
标识
DOI：10.1364/oic.2010.md1
摘要
Most of the common metal fluorides were deposited by plasma-assisted electron beam evaporation. Coatings with high packing density and low extinction coefficient could be produced. The advantages in comparison to conventional deposition techniques are discussed.
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