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Warpage Analysis of Silicon Wafer in Ingot Slicing by Wire-Saw Machine

切片 薄脆饼 图像扭曲 有限元法 材料科学 机械工程 工程制图 计算机科学 结构工程 工程类 复合材料 冶金 光电子学 人工智能 合金
作者
Toshiro Yamada
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols 被引量:9
标识
DOI:10.1063/1.1766734
摘要

It is possible thermal expansion from heat generation by slicing deforms a single‐crystal silicon ingot but the authors can find no report on the point. In addition, numerical analysis is useful to clarify the mechanism of wafer warping but no paper has been reported the numerical analysis from the start to end of the wafer slicing process. The authors carried out experiments for the wafer slicing. In addition, a finite element analysis was carried out in order to solve the warping mechanism from the start to end of the wafer slicing process. The warp of wafer in the vertical direction was 6.05 μ m in the experiment whereas the warp in the finite element analysis was 5.30 μ m. The result by the finite element analysis gave good agreement with experimental one. This paper suggests that thermal expansion of the ingot has great influence on the warp of wafer.
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