Subwavelength lithography using metallic grating waveguide heterostructure

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作者
Xuefeng Yang,Weibin Li,Dao Hua Zhang
出处
期刊:Applied Physics A [Springer Science+Business Media]
卷期号:107 (1): 123-126 被引量:5
标识
DOI:10.1007/s00339-011-6752-y
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