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Synthesis of low-k SiONC thin films by plasma-assisted molecular layer deposition with tetraisocyanatesilane and phloroglucinol

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作者
Gi-Beom Park,Hae Lin Yang,Ji Min Kim,Hyolim Jung,GeonHo Baek,Chang‐Kyun Park,Jin‐Seong Park
出处
期刊：Nanotechnology [IOP Publishing]
日期：2024-07-18 卷期号：35 (40): 405601-405601 被引量：1
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1088/1361-6528/ad60cd
摘要
Low-k SiONC thin films with excellent thermal stabilities were deposited using plasma-assisted molecular layer deposition (PA-MLD) with a tetraisocyanatesilane (Si(NCO)
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