TSV manufacturing yield and hidden costs for 3D IC integration

通过硅通孔 计算机科学 集成电路 制造工程 材料科学 球栅阵列
作者
John H. Lau
出处
期刊:Electronic Components and Technology Conference 卷期号:: 1031-1042 被引量:131
标识
DOI:10.1109/ectc.2010.5490828
摘要

3D integration consists of 3D IC packaging, 3D IC integration, and 3D Si integration. They are different and in general, the TSV (through-silicon-via) separates the 3D IC packaging and 3D IC/Si integrations, i.e., the latter two use TSV, but 3D IC packaging does not. TSV for 3D integration is >26 years old technology, which (with a new concept that every chip could have two active surfaces) is the focus of this study. Emphasis is placed on the TSV manufacturing yield and hidden costs. A 3D integration roadmap is also provided.

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