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Atomic-Scale Friction and Adhesion at Ambient Pressure

粘附 环境压力 比例(比率) 原子单位 纳米技术 化学 材料科学 化学物理 高分子科学 复合材料 热力学 物理 量子力学
作者
Joong Il Jake Choi,H. S. Cho,Jeong Young Park
出处
期刊:Langmuir [American Chemical Society]
卷期号:40 (41): 21317-21326 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acs.langmuir.4c01146
摘要

In this Perspective, we present the recent advancement and the prospects of atomic-scale friction and adhesion measurements across the pressure gap between ultrahigh vacuum and ambient pressure environments using variable-pressure atomic force microscopy (VP-AFM). We introduce the VP-AFM that enables nanotribological studies under various gas conditions with partial pressure ranging from UHV (1.0 × 10-10 mbar) to 1 bar. We highlight the frictional behaviors of ultrananocrystalline diamond surface in oxygen and water gas environments, as well as the chemical states probed with near-ambient pressure X-ray photoelectron spectroscopy (NAP-XPS). The atomic scale degradation processes of MA(CH3NH3)PbBr3, which is an organic-inorganic hybrid perovskite (OHP) investigated with VP-AFM are introduced. Finally, we discuss the potential works on catalytic model systems including bimetallic Pt3Ni(111) and TiO2(110) and the future perspective of nanotribology under ambient conditions.
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