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A 600V high-side gate drive circuit with ultra-low propagation delay for enhancement mode GaN devices

氮化镓 门驱动器 逻辑门 材料科学 联锁 CMOS芯片 电子工程 光电子学 电气工程 工程类 电压 复合材料 图层(电子)
作者
Yangyang Lu,Jun-Jie Zhu,Weifeng Sun,Yunwu Zhang,Kongsheng Hu,Zhicheng Yu,Jingwen Leng,Shikang Cheng,Sen Zhang
标识
DOI:10.1109/ispsd.2018.8393607
摘要

Benefit from the presented new Common Mode Dual-Interlock (CMDI) structure, a 600V high-side gate driver base on norma 0.5μm 600V Bipolar-CMOS-DMOS (BCD) technology achieving the high dV S /dt noise immunity larger than 85V/ns and low propagation delay less than 22ns for enhancement mode gallium nitride (GaN) devices is proposed in this paper.
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