Thermodynamically metastable α-, ε- (or κ-), and γ-Ga2O3: From material growth to device applications

材料科学 亚稳态 带隙 光电子学 紫外线 光电探测器 宽禁带半导体 兴奋剂 化学 有机化学
作者
Mahitosh Biswas,Hiroyuki Nishinaka
出处
期刊:APL Materials [American Institute of Physics]
卷期号:10 (6) 被引量:55
标识
DOI:10.1063/5.0085360
摘要

Gallium oxide (Ga2O3) has attracted tremendous attention in power electronics and ultraviolet photodetectors because of the large bandgap of 4.9–5.3 eV available to all polymorphs, as well as its high electric breakdown voltage. Recently, there has been increasing research interest in thermodynamically metastable phases such as α-, ε- (or κ-), and γ-Ga2O3, because they are predicted to exhibit superior properties compared with β-Ga2O3, the most stable phase of Ga2O3. For example, α-Ga2O3 (bandgap, Eg = 5.3 eV; expected breakdown field, Ec = ∼10 MV/cm) is expected to be a better potential candidate in power electronics than β-Ga2O3 (Eg = 4.5–4.8 eV; Ec = 8 MV/cm) because of its larger bandgap and higher breakdown field. Because these thermodynamically metastable phases cannot be grown using melt-growth techniques, they are grown heteroepitaxially on foreign substrates. We extensively illustrate the growth of these metastable phases and their alloys by employing various growth techniques and then discuss their doping and electronic properties. Finally, we emphasize their applications in devices, including power devices and solar-blind ultraviolet photodetectors.
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