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Comparisons between intrinsic bonding defects in d0 transition metal oxide such as HfO2, and impurity atom defects in d0 complex oxides such as GdScO3
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作者
G. Lucovsky,
Kwun‐Bum Chung,
Leonardi Miotti,
Karen Pas Bastos,
Carolina Amado,
Darrell G. Schlom
出处
期刊:
Solid-state Electronics
[Elsevier BV]
日期:2009-11-12
卷期号:53 (12): 1273-1279
被引量:17
标识
DOI:10.1016/j.sse.2009.10.012
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