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Ultrafast nucleation and growth of high-quality monolayer MoSe 2 crystals via vapor-liquid-solid mechanism

单层 材料科学 成核 化学气相沉积 光致发光 化学工程 异质结 晶体生长 纳米技术 结晶学 光电子学 有机化学 化学 工程类
作者
Wenfeng Wang,Haibo Shu,Dong Zhou,Jun Wang,Xiaohong Chen
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:31 (33): 335601-335601 被引量:26
标识
DOI:10.1088/1361-6528/ab8fe2
摘要

Abstract The controlled production of two-dimensional atomically thin transition metal dichalcogenides (TMDs) is fundamentally important for their device applications. However, the synthesis of large-area and high-quality TMD monolayers remains a challenge due to the lack of sufficient understanding of growth mechanisms, especially for the chemical vapor deposition (CVD). Here we report molten-salt assisted CVD growth of highly crystalline MoSe 2 monolayers via a novel vapor-liquid-solid (VLS) mechanism. Our results show that the growth rate of the VLS-grown monolayer MoSe 2 is about 40 times faster than that of MoSe 2 grown via the vapor-solid (VS) mechanism, which makes the fabrication of 100 μ m domains for ∼2 min and a uniform monolayer film within 5 min. The ultrafast growth of monolayer MoSe 2 crystals benefits from the synergic effect of one-dimensional VLS growth and two-dimensional VS edge expansion. Moreover, these MoSe 2 monolayers exhibit high crystal quality and enhanced photoluminescence due to efficient Se-vacancy repairing by the doping of halogen atoms. These findings provide a new understanding of MoSe 2 growth and open up an opportunity for the rapid synthesis of high-quality TMD monolayers and heterostructures.
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