Turning rice husks to a valuable boron and nitrogen co-doped porous C/SiOx composite for high performance lithium-ion battery anodes

材料科学 阳极 化学工程 煅烧 杂原子 锂(药物) 复合数 兴奋剂 法拉第效率 多孔性 纳米技术 复合材料 电极 催化作用 有机化学 化学 光电子学 医学 戒指(化学) 物理化学 工程类 内分泌学
作者
Haibang Zhang,Yehong Du,Ning Zhang,Peijian Lin,Wenlong Liu,Zhongsheng Wen,Jinlong Cui,Juncai Sun
出处
期刊:Microporous and Mesoporous Materials [Elsevier BV]
卷期号:335: 111794-111794 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.micromeso.2022.111794
摘要

For the exploitation of green biomass waste, boron (B) and nitrogen (N) co-doped porous C/SiO x composites (BN@C/SiO x ) have been successfully synthesized applying rice husks (RHs) as both C and Si sources and NH 4 HB 4 O 7 as the porogen reagent and heteroatom source via a one-step calcination route. The volume fluctuation of SiO x can be effectively relieved and the electronic conductivity can be substantially enhanced with the homogeneous distribution of SiO x particles in the B, N co-doped porous C matrix. Specially, B, N co-doping effectively reduces the transmission barrier of Li + in C skeleton of C/SiO x . The unique porous architecture, large specific surface area and B, N co-doping endow BN@C/SiO x with the large reversible capacity, exceptional rate property and superior cycling stability. As lithium-ion batteries (LIBs) anodes, the optimized BN@C/SiO x exhibits the cycling capacity of 1165 mAh/g at 100 mA/g and ameliorated initial coulombic efficiency (CE) of 74.3%. Even at 1.0 A/g, a stable cycling capacity of 650 mAh/g still can be obtained after 1200 cycles. This research offers a potential, relatively effective, cheap and environmental design of heteroatom doped biomass materials with enhanced Li + storage performance. • SiO x particles uniformly disperse in B, N co-doped C skeleton in BN@C/SiO x composite. • B, N Co-doping effectively reduces Li + transmission barrier in C skeleton of C/SiO x . • The presence of B and N increase specific capacity and initial CE of C/SiO x electrode. • Hierarchical porous B, N co-doped C skeleton enhances stability of SEI film on C/SiO x .
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